前道工艺设备是半导体制造过程中的重要设备,主要用于晶圆制造环节。以下是前道工艺设备的详细介绍: (1)薄膜沉积设备:薄膜沉积设备是前道工艺设备中的重要组成部分,用于在晶圆表面沉积各种薄膜材料,如金属、氧化物等。薄膜沉积设备通常采用物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)等技术,以实现均匀、稳定的薄膜沉积。 (2...
政府也应继续给予政策支持和资金扶持,推动半导体设备产业的快速发展。同时,我们要加强国际合作与交流,学习借鉴国外先进技术和经验,不断提升我国半导体设备产业的整体水平。相信在不久的将来,我国的半导体设备企业将在更多领域达到国际领先水平,彻底打破国外垄断,实现我国半导体产业的全面自主可控。这将为我国的科技发展...
设备名称:低压化学气相淀积系统 设备功能:把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入LPCVD设备的反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜。 主要企业(品牌): 国际:日本日立国际电气公司、 国内:上海驰舰半导体科技有限公司、中国电子科技集团第四十八所、中国电子科技集团第四十五所、北京仪器...
半导体设备主要分为前道工艺设备(晶圆制造)和后道工艺设备(封装测试):在前道晶圆制造中,可分为7大工艺,分别为氧化/扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、清洗和金属化,所对应的专用设备主要包括氧化/扩散设备、光刻设备、刻蚀设备、清洗设备、离子注入设备、薄膜沉积设备、机械抛光设备等。后道设备包括减薄、划片、...
个人评论: ASML在光刻技术上的创新极大地推动了摩尔定律的发展,其EUV光刻机对于延续半导体技术进步至关重要。2. 应用材料公司(Applied Materials)成立时间: 1967年 行业口碑: 应用材料公司是全球最大的半导体设备制造商之一,提供用于芯片制造的沉积、蚀刻、化学机械抛光等设备。明星产品: Endura系列物理气相沉积(PVD...
光刻技术是借用照相技术、平板印刷技术的基础上发展起来的半导体关键工艺技术。通俗易懂的说,集成电路制造,是要在几平方厘米的面积上,成批的制造出数以亿计的器件,而每个器件结构的也相当复杂,如下图所示,是一个看起来难以理清的芯片内部结构图。 这个制造密度,相当于在一根头发丝...
阿斯麦是一家荷兰的半导体设备制造商,在光刻技术领域处于绝对的全球领先地位。光刻技术是半导体制造过程中最为关键的工艺之一,它决定了芯片上电路图案的精度。阿斯麦的极紫外光刻(EUV)技术是其最为耀眼的成就。EUV光刻技术能够实现更小的光刻分辨率,使得芯片制造商能够在硅片上制造出更小尺寸的晶体管,从而提高芯片...
近日,IC Insights发布了全球排名前十半导体供应商排名,包括总部位于美国的6家供应商(第二的英特尔、第五的美光、第六的高通、第七的英伟达、第八的博通以及第十的德州仪器),总部位于韩国的2家 2021-08-21 10:50:06 美国半导体设备供应商汇总(92家) 虽然目前全球营收最大的半导体设备供应商ASML是荷兰的公司,但...
零部件间接推动半导体产业迭代升级 摩尔定律推动半导体行业迭代进步,而半导体设备是延续摩尔定律的关键。半导体制造工业需要数 百道工序,数十种设备来构建其生产流程。在芯片的数百层的结构中,每一层都要经历“沉积、涂胶、 曝光、显影、刻蚀、离子注入、去胶”等重要步骤。这些半导体设备决定了芯片的制程、性能、功耗...
01半导体设备 半导体行业素有“一代设备,一代工艺,一代产品”的经验,半导体设备要超前半导体产品制造开发新一代产品,半导体产品要超前电子系统开发新一代工艺,因此半导体设备行业是半导体制造的基石,支撑起了整个电子信息产业,是半导体行业的基础和核心。半导体设备价值高,一条半导体生产线中设备投资约占总投资规模...